IBM和JSR实现299mm线宽与线间隔

　　IBM宣布，通过与美国JSR Micro公司合作，利用ArF液浸曝光完成了线宽与线间隔为29.9mm的图案成像。这是将JSR公司的高折射率液体与采用IBM高折射率光学元件的双光束干涉曝光设备“NEMO”相结合后实现的。

　　此次的结果预示着有望将采用高折射率材料的液浸曝光技术扩展到 2nm工艺以后。JSR曾表示可使用折射率为1.64的液体，实现 2nm的线宽与线间隔。此次就结合使用的这种液体和IBM开发的折射率为1.67的棱镜。据称，光刻胶的折射率约为1.7。为了进一步提高成像性能，今后将瞄准1.9的折射率进行技术开发。该技术在日前于美国召开的“Microlithography 2006”国际会议进行了介绍（发布资料）。