机械制造科创新秀之安集微电子

机械制造：科创新秀之安集微电子 类别： 机构： 研究员：

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安集微电子成立于2006年，主要致力于CMP抛光液和光刻胶去除剂等集成电路领域关键材料国产化。2018年安集微电子销售收入2.48亿元，其中CMP抛光液2.05亿元，全球市占率仅为2.44%，但前五大客户包括中芯国际、台积电、长江存储、华润微电子、上海华虹半导体等国内外知名晶圆厂，表明耕耘10余年的安集微电子的集成电路关键材料获得国内外下游客户高度认可，安集微电子成为国产集成电路工艺设备与材料环节不可或缺的重要组成力量。

国产集成电路关键材料龙头之一。安集微电子成立于2006年，和睿励、中微、盛美半导体、上海微等老牌国产半导体设备制造商一样，诞生于同一个时代，受到02专项与大基金的大力支持，至今已有1 年经营历史和技术积淀。2018年，安集微电子销售收入2.48亿元，同比上年基本持平，尽管与北方华创、盛美半导体、中微等的集成电路工艺设备销售额相比，安集经营规模尚小，但与江丰电子、阿石创、江化微等材料供应商的经营规模基本相当，同为国产集成电路关键材料龙头。

公司产品包括CMP抛光液和光刻胶去除剂等集成电路领域关键材料。公司CMP抛光液产品2018年销售收入2.05亿元，占公司总收入的8 %，毛利率稳定在55%上下，主要包括铜及铜阻挡层化学机械抛光液、钨抛光液、硅抛光液、氧化物抛光液等，其中铜及铜阻挡层系列1.64亿元，在CMP抛光液中占比80%。公司光刻胶去除剂2018年销售额仅为0.42亿元，其中晶圆制造领域0.1 亿元，占比 0%，晶圆级封装领域0.11亿元，占比26%，LED/OLED领域0.18亿元，占比44%。

安集微电子同样拥有一支国际化技术团队，CMP抛光液成功进入台积电。

公司创始人、董事长兼总经理王淑敏SHUMINWANG女士，历任美国莱斯大学材料化学博士后，美国休斯顿大学材料化学博士后，美国IBM公司研发总部研究员，CabotMicroelectronics科学家、项目经理、亚洲技术总监，王淑敏董事长间接持有公司发行前14.59 8%的股权。在王董事长带领下，公司CMP抛光液已在1 nm技术节点实现规模化销售并成功进入TSMC，14nm技术节点产品已进入客户认证阶段，nm技术节点产品正在研发中。

安集微电子拥有国内外逻辑代工及存储客户，CMP抛光液得到国内外市场高度认可。年，五大客户收入占比92.7%、90.0%、84.0%，前五名客户包括中芯国际、台积电、长江存储、华润微电子、华虹宏力等，其中来自中芯国际销售收入占比分别为66.4%、66.2%、59.7%，来自台积电销售收入占比分别为10.7%、9.7%、8.1%，客户数量增加导致单一客户占比呈下降趋势。

安集微电子在全球CMP抛光液市场的市占率仅2.5%，但打破了日美垄断的行业格局。年，公司化学机械抛光液全球市场占有率2.42%、2.57%、2.44%，成功打破日、美厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断，与美国的CabotMicroelectronics、Versum和日本的Fujimi等展开竞争。

国内高端光刻胶去除剂也主要依赖进口，公司竞争对手包括美国的Versum、Entegris。